矽光子專利戰開打　汎銓科技提告光焱科技侵權　求償新台幣2億元

　　汎銓科技股份有限公司發布重大訊息表示，近期發現光焱科技股份有限公司涉及使用與本公司「光損偵測裝置」專利相關之設備及技術方案。為避免專利權繼續遭受損害，於2026年3月25日向智慧財產及商業法院提起訴訟，主張光焱科技侵害本公司所擁有之中華民國第I870008B號「光損偵測裝置」發明專利之權利範圍，訴請法院判命前述被告排除及防止侵害專利權的所有行為，並請求損害賠償新台幣2億元。

　　針對汎銓科技提告侵害其第I870008B號「光損偵測裝置」發明專利一事，光焱科技表示，對於同業在尚未經完整司法程序前，即透過媒體發布資訊，阻礙產業創新的行為深感遺憾，並對此類的競爭手段予以嚴正譴責。

　　光焱科技指出，雙方在檢測技術的世代上存在顯著落差，汎銓科技所宣稱之專利，係採用傳統「金相顯微鏡」組成之方案進行光損量測；光焱科技則是基於次世代、更先進的「高光譜成像技術感測模組」為核心技術，可高度整合於客戶端之系統(如探針台、電測機)上，直接進行矽光子光學檢測。其中，光損檢測僅是光焱科技在矽光子晶片檢測多功能模組的其中一項技術應用。光焱科技強調，拿舊時代的金相顯微鏡專利，來告公司新世代的高光譜影像感測模組，在技術上是完全站不住腳。(2026.03)

資料來源：
中時新聞網20260325
自由時報電子報20260326