실리콘 포토닉스 특허 분쟁: MSScorps는 Enlitech를 특허 침해로 고소하며 2억 대만 달러 손해배상 청구

MSScorps¹⁾는 최근 Enlitech²⁾가 자사의 「광학 손상 감지 장치」³⁾ 특허와 관련된 설비 및 기술 솔루션을 사용하고 있음을 발견했다고 발표했다.

자사의 특허권에 대한 추가적인 피해를 막기 위해, MSScorps는 2026년 3월 25일 지혜재산 및 상업법원에 소송을 제기하여, Enlitech가 자사가 소유한 대만 발명 특허 제1870008B호 「광학 손상 감지 장치」를 침해했다고 주장했다. MSScorps는 법원에 피고에게 특허권을 침해하는 모든 행위를 배제하고 방지하도록 명령해 줄 것을 요청하고 이와 더불어 2억 대만 달러의 손해배상을 청구했다.

MSScorps가 자사의 발명 특허 제1870008B호 「광학 손상 감지 장치」를 침해했다며 제기한 소송에 대해, Enlitech는 법적 절차가 완전히 완료되기 전에, 언론에 정보를 유출하여, 산업 혁신을 저해하는 행위에 대해 깊은 유감을 표하며, 이러한 경쟁적 전술을 강력히 규탄한다고 밝혔다.

Enlitech는 두 회사 간 탐지 기술 세대에 상당한 격차가 있다고 지적했다. MSScorps가 출원한 특허는 기존의 「금속 조직 현미경」⁴⁾을 사용하여 광학적 손상을 측정한다; 반면, Enlitech는 차세대 첨단 「초분광 이미징 기술 센싱 모듈」⁵⁾을 핵심 기술의 기반으로 하며, 이는 고객 시스템(예: 프로브 스테이션, 전기 측정 장비)에 고도로 통합되어, 실리콘 포토닉스 광학 검출을 직접 수행할 수 있다.

그중, 광학적 손상 감지는 Enlitech의 실리콘 포토닉스 웨이퍼 검사용 다기능 모듈에 적용된 기술 중 하나일 뿐이다. Enlitech는 구식 금속 현미경 특허를 이용하여, 자사의 신식 초분광 이미징 센싱 모듈을 상대로 소송을 제기하는 것은 기술적으로 전혀 타당하지 않다고 강조하였다.(2026.03)

역주: 
1)    중국어 汎銓科技股份有限公司, 영어 MSScorps Co., Ltd (MSScorps)
2)    중국어 光焱科技股份有限公司, 영어 Enli Technology Co.,Ltd (Enlitech)
3)    원문「光損偵測裝置」에 대한 의역
4)    원문「金相顯微鏡」에 대한 의역이고, 영어로는Metallographic Microscope에 해당한다.
5)    원문「高光譜成像技術感測模組」에 대한 의역